国产光刻机最新消息什么水平
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国产光刻机首次突破双工件台,与阿斯麦同等水平认为该项目关键技术达到国际水准。业内认为,清华大学团队的磁悬浮双工件台技术为EUV光刻机提供了新路径。传统ASML(阿斯麦)路线依赖气浮导轨,而磁悬浮技术在精度、能耗等方面更具优势。若国产技术在EUV场景验证成功,可能引发光刻机技术路线的“范式转换”。相关专家表好了吧!
国海证券:光刻机国产供应链有望优先受益 建议关注核心部件及加工...智通财经APP获悉,国海证券发布研报称,目前我国光刻技术与全球先进水平存在较大差距,大基金三期将重点扶持本土企业和关键技术瓶颈领域的项目,光刻机国产供应链有望优先受益,建议关注光源、照明、物镜、工件台等核心部件及加工设备标的。1)光刻机核心部件;2)光刻机部件加工等我继续说。
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先锋精科:公司部分精密零部件已量产供应7nm及以下国产刻蚀设备金融界2月13日消息,有投资者在互动平台向先锋精科提问:董事长您好,1、公司光刻机核心技术达到了7n工艺水平,是否为ASML公司设备部件提等会说。 公司回答表示:如招股书中披露,公司部分精密零部件产品已量产供应7nm及以下国产刻蚀设备。公司目前尚未与DeepSeek有合作。祝您新年快等会说。
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